三星2028年台积电2030年量产High NA EUV 资讯 2026-09-08发布 ◆ 摆脱EUV光刻机限制？我国光子芯片生产线明年建成 国内首条“多材料、跨尺寸”的光子芯片生产线已在筹备，预计将于2023年在京建成 资讯 2022-10-18发布 驱动中国 → ◆ High-NA EUV光刻机技术或走到尽头，下代技术尚未突破 ASML 首席技术官 Martin van den Brink 日前接受 Bits & Chips 的采访时表示，目前公司正有序推行... 资讯 2022-09-28发布 驱动中国 →